ナノ構造・エピタキシャル成長研究会「量子ドットの使い道」のお知らせ

量子ドットの最初の使い道は、GaAs基板上のInAsドットに代表される半導体上の 自己形成ドット構造の発光デバイスへの応用と思われる。この応用に関して、現在も 精力的に研究が行われている。一方、量子ドット構造の応用は、それのみにとどまら ず、各方面への広がりを見せている。
 本研究会では、「量子ドット」という言葉を軸に、様々な応用研究を集めた。当 然ながら、応用が異なると、必要とする材料もサイズも構造も、全く 異なったもの となる。それ故、片方の応用への失敗が、もう片方の応用へのアイデアのきっかけに もなる。
この研究会を通じて、それぞれの研究範囲の拡大につながれば幸いである。


主催: 日本結晶成長学会ナノ構造・エピタキシャル成長分科会
     応用物理学会結晶工学分科会
     東京農工大学21世紀COE「未来ナノ材料」

- 記 -


日時: 平成18年3月20日(月)13:00 〜 17:00
場所: 東京農工大学 小金井キャンパス L0011教室(講義棟1階)
     〒184-8588 東京都小金井市中町2-24-16
     詳しくは東京農工大学ホームページの交通アクセス・キャンパスマップ
  hhttp://www.tuat.ac.jp/access/をご参照ください。
参加費: 参加費:一般 3000円、学生 1000円

<プログラム>

13:00〜13:30 「広帯域半導体光増幅器に向けたInP上InAs量子ドットのMOVPE成長」
河口研一、江川満、秋山知之、安岡奈美、植竹理人
富士通(株)、(財)光産業技術振興協会
菅原充
富士通(株)
江部広治、荒川泰彦
東京大学
13:30〜14:00 「 自己組織化量子ドット超格子と高効率太陽電池への応用」
岡田至崇
筑波大学大学院数理物質科学研究科
14:00〜14:30 「量子ドット蛍光体 ―形成メカニズムからデバイス化まで―」
村瀬至生
産業技術総合研究所
14:30〜14:50   (コーヒーブレーク)
14:50〜15:20 「 量子ドット超格子熱電材料」
山本淳
産業技術総合研究所
15:20〜15:50 「液滴エピタキシー法によるナノリング構造の自己形成」
間野高明、小口信行
物質材料研究機構ナノマテリアル研究所
15:50〜16:20 「不均一量子ドット構造を利用した超広帯域発光素子の実現」
李祐植、三宅信輔、宇治原徹、竹田美和
名古屋大学大学院工学研究科
16:20〜17:00 フリーディスカッション


<お問い合わせ先>
宇治原 徹
名古屋大学大学院工学研究科結晶材料工学専攻
   〒464-8603 名古屋市千種区不老町
tel:052-789-3368 fax:052-789-3239 e-mail: ujihara@numse.nagoya-u.ac.jp